Apparato deposizione PLD

E' stato progettato e realizzato un apparato versatile per la produzione di materiali per ablazione laser impulsata (PLD - Pulsed Laser Deposition). L'apparato prevede l'utilizzo di un laser impulsato di potenza nell'ultravioletto (vedi sotto). La camera di deposizione è in standard KF ed è dotata di una microbilancia al quarzo per la misua del tasso di deposizione e di un canone ionico per deposizione assistita e\o codeposizione per sputtering. Il substrato può essere movimentato per aumentare l'area di deposizione.

Il Laser è un Continuum Powerline II 8010 (Q-switched Nd:YAG pompato a lampada):

  • Lunghezze d'onda: 1064 nm , 532 nm, 355 nm, 266 nm
  • Energia per impulso max: 1.6 J @1064 nm
  • Durata impulso: 5-7 ns
  • Repetition rate: 10 Hz
La sorgente di ioni consiste in un cannone RF da 400 watt capace di produrre ioni di Ar,N,O co energie da 50 a 1000 eV e corrente fino a 6 mA/cm2 su un'area cirocolare di circa 6 cm di diametro.

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Apparato di deposizione PLD


Foto del fascio ionico
per deposizione PLD assistita

Laboratorio Materiali Micro e Nanostrutturati, Dipartimento di Energia Politecnico di Milano Via Ponzio 34/3 I-20133 Milano