Apparato PLD e caratterizzazione in situ

E' stato progettato e realizzato un apparato per la produzione di materiali per ablazione laser impulsata (PLD - Pulsed Laser Deposition). L'apparato prevede l'utilizzo di un laser impulsato di potenza nell'ultravioletto (vedi sotto). La camera di deposizione è in standard CF (ConFlat) e il sistema da vuoto permette di raggiungere un vuoto di 10-9 mbar. La camera permette l'utilizzo contemporaneo di diversi target (fino a 4) per deposizione multimateriale. Il substrato può essere movimentato per aumentare l'area di deposizione. La camera è stata inoltre progettata per ospitare eventualmente un apparato di deposizione esterno, per alloggiare apparati per la diagnostica del plasma e per la caratterizzazione in situ del materiale deposto (ad es. spettroscopia Raman).         

Laser a eccimeri Lumonics IPEX 848:

• Lunghezza d'onda: 248 nm (UV) utilizzando KrF
• Energia per impulso max: 500 mJ
• Durata impulso: 10-15 ns
• Repetition rate: 200 Hz max

L'apparato PLD è connesso, attraverso un trasferitore in vuoto, ad un apparato STM\AFM in UHV per la caratterizzazione in situ del materiale deposto.

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